rubitec GmbH

Hochenergie-Ionenimplantation

Rubitec/RUBION führen im Kundenauftrag Ionenbestrahlungen im MeV Bereich durch. Dabei steht ein großes Spektrum an unterschiedlichen Ionen zur Verfügung. Der verfügbare Energie- und Dosisbereich ist dabei von der jeweiligen Spezies und der Wafer-Größe abhängig. Die Angaben zur maximalen Dosis in der Tabelle beziehen sich auf 150 mm – Wafer.

Ionensorte Energie-Bereich (MeV) max. Dosis (cm-2)
1H, 2H 0.4 – 8.0 ~ 5 x 1014
4He 0.4 – 12.0 ~ 5 x 1013
11B 0.4 – 12.0 ~ 3 x 1013
12C 0.4 – 16.0 ~ 5 x 1014
28Si 0.4 – 16.0 ~ 5 x 1014
31P 0.4 – 16.0 ~ 3 x 1013

Neben den aufgeführten Ionensorten sind auch Hochenergie-Ionenbestrahlungen mit Li, N, O, Al, Ni, etc. möglich. Die Möglichkeiten werden von uns anwendungsabhängig auf Anfrage ermittelt.

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