Im Auftrag industrieller Partnern werden kundenspezifische Forschungs- und Entwicklungsprojekte unter Nutzung hochenergetischer Ionenstrahlen durchgeführt.
Die Hochenergie-Ionenimplantationen verbessert die Produkteigenschaften von Leistungshalbleitern. Ionensorte, Energie und Dosis können dabei in weiten Bereichen variiert werden.
Durch das Einbringen von speziellen Ionen in die Randschichten eines Materials oder durch spezielle Beschichtungen der Oberflächen lassen sich die Eigenschaften eines Produktes im oberflächennahen Bereich ändern.
Nach erfolgreicher Umrüstung einer Anlage ist die rubitec seit Beginn des Jahres in der Lage alle angebotenen Implantationen auch auf 200mm Wafern anzubieten. Das Handling der Wafer erfolgt dabei zur[...]
